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镀膜进程监控

宣布时候:2018-08-02 08:21:15

在镀膜进程中须要对一些主要参数停止监控如膜层厚度、成份、外表光亮度、光透射率、反射系数、偏振特征等,都能够操纵光谱学和双光束干与的方式停止丈量。光纤的操纵为监控进程供给了矫捷的东西,能够使光便利地进入或导出远方的真空超净室,并且能够同时为膜层阐发供给多个多少量的丈量挑选。膜层的照明和发光的探测能够在绝对膜层的差别光纤地位停止,能够丈量镜面反射、漫反射、传输、偏振、干与、荧光和拉曼散射等。能够操纵多根光纤同时监测多个参数,或在差别的空间地位或掩模前提下同时丈量

用几个合适规划的光纤探头,就能够在线监测出产的全进程。在一些场所中,能够经由进程监测离子源(如等离子源)的光谱辐射来肯定镀膜进程中的前提效力

对大大都此类监测体系来讲都须要特地的尝试规划,咱们能够为您供给合适您操纵的尝试规划,这里仅举一个操纵体系的例子

      在这里操纵一个反射型光纤探头来在线监测镀膜出产进程。光纤经由进程过真空装配进入真空室,而后传到反射探头上。反射光颠末另外一个过真空装配,进入光谱仪的一个丈量通道。反射型探头能够用SMA讨论拆下。还能够再增添一个光谱仪通道,用来停止参考丈量或弥补光源自身的动摇对丈量成果的影响。


光谱仪

AvaSpec-ULS2048(200-1100nm)

软件

AvaSoft-Full软件和XLS或PROC操纵软件

光源

AvaLight-DH-S-BAL平衡光谱型氘-卤素灯

光纤探头  

1根FCR-7UV200-2-ME反射型光纤探头,1根FC-UV600-2光纤和1根FC-UV200-        2光纤

过真空装配

FC-VFT-UV200和FC-VFT-UV600